光譜膜厚儀的磁感應(yīng)測量原理

光譜膜厚儀的磁感應(yīng)測量原理主要基于磁通和磁阻的變化來測定覆層厚度。當(dāng)光譜膜厚儀的測頭接近被測物體時，測頭會發(fā)出磁場，這個磁場會經(jīng)過非鐵磁覆層流入鐵磁基體。在這個過程中，磁通的大小會受到覆層厚度的影響。覆層越厚，磁通越小，因為磁場需要穿透更厚的非鐵磁材料才能到達鐵磁基體。同時，光譜膜厚儀還會測定對應(yīng)的磁阻大小。磁阻是表示磁場在材料中傳播時所遇到的阻礙程度的物理量。覆層越厚，磁阻也會越大，因為磁場在穿透非鐵磁材料時會受到更多的阻礙。因此，通過測量磁通和磁阻的大小，光譜膜厚儀就能夠準(zhǔn)確地確定覆層的厚度。這種測量原理使得光譜膜厚儀能夠廣泛應(yīng)用于各種磁性金屬表面的非磁性涂鍍層厚度的檢測，如鐵鍍鋅、鐵鍍鋁、鐵鍍銀等。同時，它也可以用于檢測非磁性金屬表面的非導(dǎo)電涂層厚度，如陽極氧化膜、油漆、涂料等。總的來說，光譜膜厚儀的磁感應(yīng)測量原理是一種基于磁場特性的非接觸式測量方法，具有測量準(zhǔn)確、操作簡便等優(yōu)點，為各種材料表面涂層厚度的檢測提供了有效的手段。