

高真空分子泵是現(xiàn)代超高真空(UHV)和極高真空(XHV)系統(tǒng)不可或缺的設(shè)備。其工作原理基于高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子葉片將氣體分子“撞擊”向下方的定子葉片通道,從而將氣體分子從入口“拖曳”至出口,實現(xiàn)定向抽氣。相較于擴散泵,分子泵具有無油污染、啟動快、極限真空度高、抽速穩(wěn)定等顯著優(yōu)勢。
性能參數(shù)關(guān)注點
1.抽速(PumpingSpeed):單位時間泵入口處抽除的氣體體積(通常以L/s或m3/h表示)。需匹配腔室體積和所需達到的真空度/抽氣時間。不同氣體(如N2,H2,He)的抽速可能不同。
2.極限真空(UltimatePressure):泵在理想條件下能達到的低壓力(通常以mbar或Pa表示)。分子泵可達10^{-9}mbar至10^{-11}mbar范圍,是獲得超高真空的關(guān)鍵。
3.大前級壓力(ForelineTolerance):分子泵需要前級泵(通常是旋片泵或干泵)預(yù)抽至一定壓力(通常10^{-2}至1mbar范圍)才能啟動和穩(wěn)定工作。此參數(shù)決定了前級泵的選型要求。
4.轉(zhuǎn)速(RotationalSpeed):轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速(通常以rpm表示),直接影響抽速和極限真空。高轉(zhuǎn)速帶來,但也影響軸承壽命。
5.壓縮比(CompressionRatio):泵出口壓力與入口壓力的比值,尤其對輕質(zhì)氣體(如H2,He)的壓縮能力至關(guān)重要。
6.接口尺寸(PortSize):入口法蘭尺寸(如ISO-KF,ISO,CF)需與腔室匹配。
典型應(yīng)用領(lǐng)域
*半導(dǎo)體制造:光刻、刻蝕、薄膜沉積(PVD,CVD,ALD)、離子注入等工藝設(shè)備。
*表面分析:電子顯微鏡(SEM,TEM)、X射線光電子能譜(XPS)、俄歇電子能譜(AES)、二次離子質(zhì)譜(SIMS)。
*與核物理:粒子、同步輻射光源、聚變實驗裝置。
*空間模擬:航天器部件測試、熱真空試驗。
*分析儀器:質(zhì)譜儀(特別是高分辨率質(zhì)譜)。
*鍍膜工業(yè):光學(xué)鍍膜、裝飾鍍膜。
選型與技術(shù)咨詢建議
1.明確需求:確定目標(biāo)真空度、所需抽速、腔室體積、主要抽除氣體種類、預(yù)算。
2.匹配前級泵:確保前級泵的抽速和極限真空滿足分子泵的啟動和運行要求。
3.考慮環(huán)境:關(guān)注泵的噪音、振動、發(fā)熱量,是否適合實驗室或潔凈室環(huán)境。
4.維護與壽命:了解軸承類型(如陶瓷軸承)及其預(yù)期壽命、維護周期和成本。干泵(無油)前級系統(tǒng)可減少維護。
5.特殊要求:是否需要磁懸浮軸承(無磨損、超高轉(zhuǎn)速)、抗腐蝕能力(針對特定工藝氣體)、低振動版本(電鏡應(yīng)用)等。
6.供應(yīng)商支持:選擇提供可靠技術(shù)文檔、應(yīng)用支持和售后服務(wù)的供應(yīng)商(如:廣州潽拓)。
在進行選型或遇到技術(shù)難題時,建議提供具體的應(yīng)用場景、性能指標(biāo)和預(yù)算范圍,以便獲得更的解決方案。
潽拓光電:真空泵真空極限
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