技術(shù)特征:首代抗磨損膜技術(shù)。抗磨損膜始于20世紀(jì)70年代初,當(dāng)時認(rèn)為玻璃鏡片不易磨制是因為其硬度高,而有機(jī)鏡片則太軟所以容易磨損。因此將石英材料于真空條件下鍍在有機(jī)鏡片表面,哪里有包銀導(dǎo)電輥,形成一層非常硬的抗磨損膜,但由于其熱脹系數(shù)與片基材料的不匹配,很容易脫膜和膜層脆裂,因此抗磨損效果不理想。第二代抗磨損膜技術(shù):20世紀(jì)80年代以后,研究人員從理論上發(fā)現(xiàn)磨損產(chǎn)生的機(jī)理不僅僅與硬度相關(guān),膜層材料具有“硬度/形變”的雙重特性。







通過控制工藝條件能生產(chǎn)出IC-Ag99.99標(biāo)準(zhǔn)的電解銀粉,但高純銀的產(chǎn)率很低,且電解液中銅、鉛離子升高很快,對電解液必須進(jìn)行頻繁的處理,包銀導(dǎo)電輥價格,且電解銀粉中的雜質(zhì)元素銅、鉛、鐵等時常會超標(biāo),包銀導(dǎo)電輥,使用電銀加工材料的客戶頗有微詞,哪家有包銀導(dǎo)電輥,故必須再尋找途徑,提高銀的質(zhì)量。

在2005年后,由于外購銀泥發(fā)生變化,雜質(zhì)含量變動很大,采用原有的工藝根本無法再生產(chǎn)高純銀。
一般來說,利用濺鍍制程進(jìn)行薄膜披覆有幾項特點(diǎn):(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。(2)再適當(dāng)?shù)脑O(shè)定條件下可將多元復(fù)雜的靶材制作出同一組成的薄膜。(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。(4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制,容易得到的膜厚。(5)較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。(6)濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排。(7)基板與膜的附著強(qiáng)度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由于濺射粒子帶有高能量,在成膜面會繼續(xù)表面擴(kuò)散而得到硬且致密的薄膜,同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結(jié)晶膜。


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