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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀90年代以來，金銅靶材，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線。
在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，哪里有金銅靶材，同高壓電場組成正交電磁場。
平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場，亦將帶動ITO靶材的技術(shù)與市場需求。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫臺金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺金靶材。如今一般采取方法生產(chǎn)ITO靶材，金銅靶材報價，利用L}IRF反應(yīng)濺射鍍膜．它具有沉積速度快．且能控制膜厚，電導(dǎo)率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強等優(yōu)點。
工業(yè)上大量使用的是工業(yè)純稀土金屬，較高純度的稀土金屬主要供測定物理化學(xué)性能之用。主要有四種提純方法在試驗室中使用，即真空熔融，真空蒸餾或升華，電遷移和區(qū)域熔煉。 稀土金屬棒在區(qū)域熔煉爐中以很慢的速度（如提純釔時為0.4毫米/分），哪家有金銅靶材，進行多次區(qū)熔，對去除鐵、鋁、鎂、銅、鎳等金屬雜質(zhì)有，但對氧、氮、碳、氫無效。此外，電解精煉、區(qū)熔－電遷移聯(lián)合法提純稀土也有一定效果。
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第9年
